DB-FIB

半導体エレクトロニクスと集積回路技術の急速な進歩により、デバイスと回路構造の複雑さが増し、マイクロエレクトロニクスチップのプロセス診断、障害解析、マイクロ/ナノ製造に対する要件が高まっています。デュアルビームFIB-SEMシステム強力な精密加工機能と顕微鏡分析機能を備えた は、マイクロエレクトロニクスの設計と製造に欠かせないものとなっています。

デュアルビームFIB-SEMシステム集束イオンビーム（FIB）と走査型電子顕微鏡（SEM）を統合した装置です。電子ビームの高い空間分解能とイオンビームの精密材料加工能力を組み合わせることで、FIBベースの微細加工プロセスをSEMでリアルタイム観察できます。